结构与规格
该系列设备专为科研院校、实验室及企业研发中心设计，适用于多种薄膜工艺开发、材料研究与教学示范。设备采用立式上开盖结构，腔体净尺寸为 Φ400 × 400 mm。上开盖设计使操作更加便捷，便于频繁更换基材、靶材和实验参数，非常适合进行多次工艺试验与教学演示。
腔体内部布局紧凑，可同时安装三种不同靶材，也可进行单靶独立沉积。多靶组合设计能够支持多层膜、复合膜及功能膜的制备，适合验证不同材料组合对膜层性能的影响。
弧源与工艺配置
设备配置 3 个高性能阴极弧源（Φ100 × 40 mm），可根据实验需要快速切换靶材，实现多靶连续沉积。通过独立控制弧源电流与偏压电压，可灵活调节离子能量，从而形成不同特性的涂层，如高硬度膜、耐磨膜或装饰膜。多靶沉积模式还可实现多层膜或渐变膜的制备，用于研究涂层的结构与性能关系。
真空与控制系统
系统配备高效真空抽气机组，能够快速达到高真空状态并保持稳定运行，确保沉积过程的纯净度与重复性。全自动控制平台可精确设定弧电流、偏压电压、气体流量与沉积时间等关键参数，并可实时显示与记录实验数据。操作界面直观简洁，方便教学与实验操作。
应用范围
该设备广泛用于科研与教学场景，支持以下应用：
膜层材料研究与性能分析
新型涂层工艺开发与参数优化
实验教学与工艺演示
小批量精密零件表面功能性或装饰性镀膜
可沉积材料
设备支持多种金属和化合物靶材，包括钛（Ti）、铬（Cr）、锆（Zr）等。通过与氮气或碳氮混合气反应，可沉积功能性与装饰性薄膜，如 TiN、CrN、ZrN、TiCN 等。
这些涂层不仅能提升工件表面的硬度、耐磨性与抗腐蚀性，还能展现多种装饰色彩。
可实现的膜层颜色包括金色、银色、枪黑色、蓝色和彩色渐变膜等，膜层光泽均匀、附着力强、耐磨性优良，既可用于功能性研究，也适合教学展示和小批量装饰镀膜实验。
该实验与教学专用镀膜设备集紧凑结构、灵活配置与高稳定性于一体，是科研院校和实验室开展材料研究、涂层开发与教学培训的理想平台。它可直观展示真空镀膜原理与工艺过程，帮助学生和研究人员深入理解 PVD 技术的核心应用与性能优势。
