CVD（化学气相沉积）设备是一种利用气相化学反应在基材表面沉积薄膜的成膜装置，通过将含有膜材元素的反应气体精确引入反应腔，在高温或等离子体条件下使其分解或反应生成固态膜层，并将未反应气体和副产物排出。设备通常由反应腔、加热系统、气体供给与控制系统、真空系统、废气处理系统及自动化控制系统组成，常见类型包括常压 CVD、低压 CVD、等离子体增强 CVD、金属有机 CVD 等，广泛应用于半导体制造、光伏产业、硬质涂层、光学膜及金刚石等超硬材料制备领域。
PVD（物理气相沉积）镀膜机是一种在高真空环境下，利用磁控溅射、阴极弧或多种等离子体技术，将金属、合金及化合物材料以原子或分子形式沉积于基材表面的先进设备。北宇真空科技自主研发的PVD镀膜系统具备高度模块化、多电源兼容与精密参数控制等特点，可实现高附着力、高均匀性与高致密度的功能性涂层沉积，广泛应用于精密零部件、刀具模具、电子器件、装饰产品及新材料研发等领域，为科研机构及工业客户提供高质量、可定制的薄膜解决方案。
该纳米粉设备采用先进的VIGA-PAS（真空感应气体雾化-等离子球化）复合技术，专为制备高品质纳米粉体而设计。设备可精准控制粒径（10–500 nm），确保粉末均匀性高（CV值<8%）。配有激光在线监测与AI动态调节系统，批次稳定性高达99.2%。其密闭的惰性气体系统严格控制氧含量低于50 ppm，可安全处理各种高活性及难熔合金材料，广泛应用于新能源、航空航天、生物医疗、电子化工等高端领域。
本设备是一种专为金属与高分子材料进行表面氮化、碳化和硫化处理的高性能真空改性设备。设备采用先进的真空离子渗透技术，显著提高材料表面硬度、耐磨性与使用寿命。其智能化PLC控制系统确保工艺参数精准稳定，可广泛应用于大型模具制造、汽车零部件加工、航空航天精密器件等领域，助力企业实现高效、节能和环保的现代化生产。
