结构与规格
P-3025BY 采用立式腔体结构，腔体净尺寸为 Φ300 × 250 mm，顶部开启式设计，操作简便，便于放置与取出样品。该设备尺寸小巧，非常适合实验室教学及初学者使用。由于腔体可直观展示内部结构和操作流程，教师可在课堂上进行真空系统与薄膜沉积过程的现场演示，帮助学生直观理解 PVD（物理气相沉积）的基本原理。样品台为固定式结构，确保样品在沉积过程中位置稳定，便于观察薄膜的形成过程。
靶材与工艺配置
系统配备一个 4 英寸平面磁控靶，靶位安装在上盖位置，用于常见金属材料的磁控溅射实验。可使用的典型靶材包括铝（Al）、钛（Ti）、铜（Cu）、铬（Cr）、不锈钢（SUS）等。若进行基础氧化或氮化实验，也可引入氧气或氮气以制备氧化铝（Al₂O₃）、氮化钛（TiN）等功能薄膜。
整机采用手动控制方式，学生可亲自调节沉积参数，如气体流量、溅射时间与靶功率，从而更好地理解各参数对薄膜厚度、颜色和附着力的影响。此种直观的操作体验有助于建立对真空镀膜工艺的基础认知。
真空与控制系统
P-3025BY 配备一套 8 L/s 的旋片式真空泵，可满足低真空状态下的溅射沉积实验需求。系统通过手动阀门控制气体通断与抽气速率，结构简洁、维护方便。学生可通过观察压力变化、气体流动及沉积效果，学习真空系统的基本组成与运行原理。控制平台提供基础参数调节功能，如沉积时间设定与气氛控制，可配合压力表与计时装置进行实时观察。
应用范围
- P-3025BY 是专为教学与初级研究设计的入门型 PVD 实验设备，广泛应用于：
- 材料科学、物理、电子工程等专业的教学演示。
- 真空技术与薄膜工艺基础实验。
- 学生实训课程中的操作技能培训。
- 基础镀膜工艺入门实验，如金属镀膜（铝、钛、铜、不锈钢等）。
- 氮化或氧化类功能薄膜初级研究（TiN、Al₂O₃ 等）。
通过本系统，学生能够了解真空抽气系统的构成、磁控溅射原理以及薄膜沉积过程的主要步骤。该设备兼具安全性、可视性和教学互动性，是高等院校、职业技术学院及科研实验室用于 PVD 工艺教学的理想选择。
