结构与规格
JSP-1010BY 系列采用立式前开门结构，腔体净尺寸为 Φ1000 × 1000 mm（H），内部空间宽敞，可满足大型基材的批量化涂层生产与高性能工艺开发需求。设备配备下坐式旋转工作台，具备自转与公转双重运动模式，转速可自由调节，使沉积粒子在样品表面分布更均匀，薄膜致密度更高。此设计能够显著提升膜层的厚度一致性、附着力与外观均匀性，确保大尺寸工件的涂层质量稳定。
靶材与工艺配置
系统配备 4 个矩形平面磁控靶，可根据工艺需求灵活组合，实现多靶材同时溅射与复合沉积。
JSP-1010BY 标配两台直流磁控电源、一台双脉冲中频磁控电源，以及一台德国 HorTeng Truplasma 4010 偏压电源，并搭载高效离子源系统。该配置能够满足从硬质防磨到装饰光学等多种涂层需求，兼顾高产能与高性能的平衡。
可使用的典型靶材包括：
钛（Ti）、铝（Al）、铬（Cr）、锆（Zr）、不锈钢（SUS）、铜（Cu）、钨（W）、钼（Mo）等金属；
氮化物类靶材如 TiN、CrN、TiAlN、ZrN、AlTiN；
氧化物类如 ITO、Al₂O₃、SiO₂、ZnO；
碳基靶材如石墨（C）或 WC/C，用于制备减摩及防磨涂层。
用户还可选择不同靶材组合，以实现多层膜、复合膜或渐变膜结构。
真空与控制系统
设备采用高性能分子泵机组与机械前级泵组合，能够快速建立高真空环境，有效降低杂质含量与氧化风险，保证膜层纯净度。
控制系统基于全自动化工业平台，具备多通道精密控制功能，可对靶功率、气体比例、真空度、沉积时间与基台转速进行独立设定与实时监控。系统可记录每一批次的工艺数据，支持曲线追踪与历史对比，方便工艺优化与批次管理。
应用范围
JSP-1010BY 广泛应用于中大型零件的高性能薄膜沉积工艺，覆盖多个工业与科研领域：
- 硬质涂层：用于刀具、模具、切削刃具等部件表面，提高硬度与耐磨性，如 TiAlN、CrN、TiN、AlTiN 等；
- 减磨涂层：用于轴承、活塞、机械滑动部件的摩擦降低与寿命延长，如 WC/C、DLC、MoS₂ 等；
- 功能性涂层：用于电子器件、精密零件的导电、防腐蚀、电磁屏蔽及红外反射等功能性用途；
- 装饰性涂层：用于高端装饰部件、五金配件、手表、汽车零件等，提供金属光泽、彩色膜层及耐磨表面。
凭借其大尺寸腔体设计、灵活的电源配置与高精度自动化控制，JSP-1010BY 系列能够满足科研开发、小试验证到工业批量生产的多重需求，是高端磁控溅射涂层生产的理想平台。
