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结构与规格
JSP-1312BY 系列采用立式前开门结构设计，腔体净尺寸为 Φ1300 × 1200 mm（H），内部空间宽敞，可容纳超大型工件，是针对高性能涂层批量化生产而开发的多功能真空镀膜平台。设备配备下坐式旋转工作台，支持自转与公转两种运动模式，转速可调。通过多轴旋转实现均匀沉积，使膜层厚度分布更一致、结构更致密，尤其适用于对涂层均匀性要求极高的应用场景。
靶材与工艺配置
系统配置四个柱状磁控靶与八个弧源（上下各四个对称布置），可根据不同工艺需求灵活组合使用，实现磁控溅射与弧源沉积的协同工艺。
设备配备：
直流磁控电源 × 4 台
偏压电源 × 1 台
高效离子源 × 1 套
高性能分子泵机组 × 1 套
该系统能够在同一腔体内完成多种沉积工艺，例如：
采用磁控靶实现均匀的金属或氧化物薄膜沉积；
采用弧源进行高致密度、高附着力的硬质涂层制备；
通过离子源辅助，可进一步改善膜层结合力与表面光洁度。
常用靶材包括钛（Ti）、铝（Al）、铬（Cr）、锆（Zr）、钨（W）、钼（Mo）、不锈钢（SUS）等金属，以及复合靶如 TiAl、CrAl、TiSi 等。可制备的功能膜层包括氮化物（TiN、CrN、TiAlN）、碳基膜（DLC、WC/C）、以及氧化物（Al₂O₃、TiO₂、ZnO 等）。
真空与控制系统
系统采用高性能分子泵与机械泵组合机组，可快速建立高真空环境，有效抑制氧化与杂质污染，确保涂层纯度。全自动化控制平台支持靶功率、弧源功率、气体比例、偏压电压与转架转速的精确控制，所有工艺参数均可实时监测与记录。系统具备数据追溯功能，可生成工艺报告，确保不同批次的涂层一致性与可重复性。
应用范围
JSP-1312BY 系列专为大批量、高要求涂层生产而设计，广泛应用于以下领域：
硬质涂层：适用于切削刀具、模具、冲压件，提高表面硬度与耐磨性，如 TiN、TiAlN、CrN、AlTiN 等；
减磨涂层：用于机械轴承、活塞环、泵阀部件等，降低摩擦系数、延长使用寿命，如 WC/C、DLC、MoS₂ 等；
功能性涂层：用于电子器件、精密部件及工业防护件，实现导电、防腐蚀、电磁屏蔽等性能；
装饰性涂层：用于高端装饰五金、钟表外壳、卫浴产品及汽车配件，实现金属光泽、镜面效果及彩膜外观。
凭借其大腔体设计、双工艺复合系统及智能化控制平台，JSP-1312BY 能够在高产能条件下实现高质量、高附着力的涂层沉积，是高端 PVD/CVD 工艺生产线的核心设备之一。
