产品概述
JSP-6060 系列磁控溅射镀膜系统是一款科研级与中试级兼顾的真空镀膜设备。采用立式前开门结构，腔体净尺寸为 Φ600×600 mm（H），整体设计紧凑，操作与维护便捷。系统配置下坐式多功能旋转工作台，支持自转与公转联动，转速可调，可显著提升膜层厚度的均匀性与致密性。
该系列适合科研院所、大学实验室及企业研发部门用于多种薄膜工艺开发、结构验证及小批量制备。
主要特点
- 立式前开门结构，操作空间充足，样品装卸便捷。
- 下坐式加热旋转工作台，支持自转与公转，可实现膜层高均匀性沉积。
- 配备 4 个矩形平面磁控靶，靶位布置灵活，可满足多工艺组合。
- 电源系统可选直流（DC）、中频（MF）、高功率脉冲（HiPIMS）及射频（RF）多种模式。
- 采用高性能分子泵机组，实现优异高真空环境，保证膜层纯净与可重复性。
- 全自动化控制系统，精确调控功率、气体流量及沉积速率，支持数据记录与工艺追溯。
- 兼容金属、陶瓷、氧化物、复合膜等多种材料的沉积与功能开发。
技术参数
| 腔体尺寸 | Φ600 × 600 mm（H） |
| 靶源数量 | 4 个矩形平面磁控靶 |
| 靶材尺寸 | 100 × 400 mm（可定制） |
| 工作台 | 下坐式旋转台，自转+公转，可加热 |
| 极限真空 | 5 × 10⁻⁵ Pa （或更优） |
| 真空系统 | 分子泵 + 机械泵复合机组 |
| 电源配置 | DC / MF / HiPIMS / RF 组合可选 |
| 控制系统 | 全自动 PLC + 触摸屏控制，支持工艺监控与数据记录 |
型号配置
JSP-6060A
配置两台直流磁控电源、一台中频磁控电源及一台射频电源，并配备高效离子源系统，用于膜层致密化或表面改性处理。
适用于金属膜、复合膜及功能膜研究。
JSP-6060B
配置一台直流磁控电源、一台高功率脉冲磁控溅射电源（HiPIMS）及两台射频电源。
该配置显著提升膜层致密性、附着力与微观结构控制能力，适用于高性能功能膜、装饰膜及精密元件制备。
应用领域与典型膜层
硬质涂层
用途：刀具、模具、精密机械零部件的耐磨防护。
典型膜层：TiN、CrN、TiAlN、AlCrN。
价值：显著提升表面硬度、耐蚀性与使用寿命。
减磨涂层
用途：摩擦副零件、轴承、模具表面润滑层。
典型膜层：WC/C、MoS₂、DLC。
价值：降低摩擦系数，提高可靠性与能效。
功能涂层
用途：导电层、防腐层、电磁屏蔽层等。
典型膜层：Cu、Ni、TiN、Cr、ZnO、AlN。
价值：增强电性能与环境稳定性，适合电子器件及结构件保护。
装饰涂层
用途：金属外观装饰、耐磨与抗指纹膜层。
典型膜层：TiN、ZrN、CrN、TiCN、彩色DLC。
价值：兼顾美观、耐久性与成本控制。
氧化物涂层
用途：透明导电膜、光电功能层、介质反射膜。
典型膜层：ITO、Al₂O₃、TiO₂、ZnO、SiO₂。
价值：高透光率、高附着力，适合显示、光伏及光学器件开发。
技术优势
- 支持直流、中频、HiPIMS 与射频多种溅射方式
- 可实现单层、多层及梯度膜结构沉积
- 真空系统稳定可靠，保证膜层纯净与一致性
- 工艺参数可重复调用，利于研究与中试放大
- 模块化设计，方便维护与功能扩展
适用范围
JSP-6060 系列广泛应用于：
- 材料表面工程与功能涂层研究
- 光电器件、MEMS 与传感器开发
- 硬质与减摩涂层中试生产
- 装饰膜及节能膜结构优化
- 新材料配方筛选与性能验证
