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结构与规格

PVD-1112 系列是一款为高性能涂层批量化生产而设计的真空离子镀设备。设备采用圆柱形腔体结构，净尺寸为 Φ1100 × 1200 mm（H），配备双层循环冷却水套，可在沉积过程中保持温度稳定，防止过热导致膜层质量下降。前开门式设计方便操作人员进行大型工件的装卸与维护，适用于模具、刀具及其他高附加值金属部件的涂层生产。腔体结构坚固可靠，具备良好的密封性能与热稳定性，保证长时间连续运行。

弧源与工艺配置
系统搭载 12 台高性能阴极弧源，每台弧源均配备独立的单脉冲直流电源，可产生高能离子流，使蒸发的金属粒子以高速轰击工件表面，从而形成致密且结合力极强的薄膜。多弧源的布置方式可支持多种靶材的同时使用，实现多层膜或复合膜结构的沉积。

设备配置包括：

• 弧源 × 12 台

• 单脉冲直流弧电源 × 12 台

• 偏压电源（HorTeng Truplasma 4020） × 1 台。

• 阴极电弧等离子体增强装置（AEGD） × 1 套。

通过调节不同弧源的功率、工作气体比例与偏压参数，可灵活控制薄膜成分、结构和性能。例如可形成高硬度涂层以增强耐磨性，或优化薄膜密度以提高抗氧化能力。

常用靶材包括：
钛铝（TiAl）、铬铝（CrAl）、铬铝硅钨（CrAlSiW）等多元合金材料。这些靶材在沉积过程中形成的涂层具有高硬度、优异的热稳定性及抗氧化性，能显著提升工件的使用寿命。

真空与控制系统
设备配备高效分子泵和机械前级泵组成的真空系统，能够在短时间内建立高真空环境，有效减少氧化和杂质颗粒对薄膜的污染。全自动控制系统可精准设定弧源电流、偏压电压、工作气体流量及沉积时间等参数，并可实时显示、记录与追溯工艺数据。操作界面直观清晰，支持多工艺配方保存与一键调用，方便批量化生产及工艺优化。

应用范围
PVD-1112 特别适用于要求高硬度、高附着力和高耐磨性的工件表面处理，广泛应用于以下领域：

模具涂层：
适用于冷作模具、热作模具、注塑模具、冲压模具等，提高模具表面的硬度、耐磨性及抗粘附性能，有效延长使用寿命并减少维护成本。

刀具涂层：
广泛应用于铣刀、车刀、钻头、丝锥、成形刀具等高速切削工具，可显著提升切削效率、降低摩擦、减少刀具磨损，并在高温环境下保持优异的稳定性。

机械零部件防护：
适用于轴类、齿轮、活塞环、阀体等机械构件，提升其耐磨、抗腐蚀及抗氧化性能，改善使用寿命与表面性能。

装饰与功能膜应用：
在保持优异机械性能的同时，也可根据需要制备具有金属光泽或彩色效果的膜层，用于装饰性部件或电磁屏蔽、红外反射等功能性领域。

PVD-1112 系列设备通过多弧源高能离子沉积技术，实现膜层的高致密度、高结合力与优异的表面光洁度。它不仅适合工业批量生产，也可用于科研机构进行新型涂层材料的开发。该系统以高稳定性、灵活工艺和高重复性著称，是模具与刀具行业中应用广泛的高端 PVD 镀膜设备之一。