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结构与规格

PVD-1912 系列是一款大型多功能真空镀膜设备，采用圆柱形腔体结构，净尺寸为 Φ1900 × 1250 mm（H），有效沉积区域可达 Φ1700 × 950 mm（H）。这一尺寸设计可同时容纳多件中大型工件，满足批量生产与大尺寸产品的镀膜需求。设备采用前开门式结构，方便上下料与维护操作。腔体配备双层水道冷却系统，能在沉积过程中保持温度稳定，防止过热，确保涂层结构致密、颜色稳定。PVD-1912 以高稳定性与高效率著称，是用于精密装饰与功能性涂层生产的高端设备。

靶材与工艺配置
该系列将磁控溅射技术与阴极弧源技术相结合，兼具高沉积速率与优异膜层致密度。系统配备 8 对（共 16 支）柱状磁控靶，由 16 台美国 AE 磁控电源独立驱动，可实现不同材料靶的同步工作或分层沉积。
此外，设备装配 10 个阴极弧源（规格 Φ100 × 40 mm），采用永磁与电磁混合结构，磁场强度可调，能够在沉积过程中精确控制离子能量与弧光分布。

核心配置包括：

• 柱状磁控靶 × 16 支

• AE 磁控电源 × 16 台

• 阴极弧源 × 10 台

• 直流弧电源 250A × 10 台

• 偏压电源（HorTeng Truplasma 4020，40 kW）× 1 台

• 阴极电弧等离子体增强装置（AEGD）× 1 套

• 日本岛津 350 口径分子泵 × 3 台

这种复合工艺配置可在同一腔体内完成金属、氮化物、氧化物和复合膜的多层沉积。通过调节靶功率、弧电流、气体比例与偏压参数，可获得不同性能的薄膜结构，如高硬度膜、耐磨膜、装饰膜或功能膜。

常用靶材包括钛（Ti）、铝（Al）、锆（Zr）、铬（Cr）、不锈钢（SUS）、钨（W）、钼（Mo）、铜（Cu）等金属靶，以及它们的复合合金靶如 TiAl、CrAl、ZrTi 等。可形成的涂层类型包括氮化物（TiN、CrN、ZrN）、碳化物（TiC、WC/C）、氧化物（TiO₂、Al₂O₃、ZnO）以及装饰性彩膜。

真空与控制系统
设备配备三台日本岛津 350 口径分子泵并联运行，能够在短时间内将大腔体抽至高真空状态，有效抑制杂质与氧化物生成，保证薄膜纯度与色泽稳定性。全自动化控制系统具备多通道监控与参数调节功能，可同时对磁控靶功率、弧源电流、偏压电压、气体流量及电磁场强度进行精确控制。
系统提供全程数据记录与追溯功能，可保存多组工艺配方，实现批量化生产中的一致性与可重复性。操作界面人性化，既适合技术人员优化工艺，也便于企业进行稳定批量生产。

应用范围
PVD-1912 系列广泛应用于高端精密装饰与功能性涂层制造领域，特别适合对外观和性能都有严格要求的产品：

手机边框与电子外壳
用于高端手机、平板电脑及智能穿戴设备外壳，实现高光泽、耐磨、抗指纹、防腐蚀等特性。可呈现金色、枪色、黑色、蓝色、玫瑰金等装饰效果。

高端消费电子部件
适用于不锈钢、铝合金、钛合金等材质的电子设备外壳、按键、支架等零件的表面处理，使其具有金属质感与耐划伤性能。

装饰性涂层
用于钟表、眼镜框、卫浴五金、汽车内饰、建筑装饰件等，提供丰富的外观选择，如镜面金属光泽、彩色渐变膜及哑光质感膜层。

功能性涂层
通过调控材料与工艺，可制备导电膜、防腐膜、红外反射膜及电磁屏蔽膜，广泛应用于电子、光学与工业防护领域。

PVD-1912 结合了磁控溅射与弧源技术的优势，具备大腔体设计、高沉积速率与高均匀性。它能够同时实现高附着力、高光洁度与丰富色彩控制，是现代电子、精密制造及装饰行业中生产高端 PVD 涂层的理想设备。