结构与规格
该系统采用等离子炬熔化雾化工艺（Plasma Torch Atomization Method），可连续制备高纯度金属粉末及部分合金粉末，适用于科研、中试及工业化批量生产。系统整体结构为连续化生产线设计，配备高效冷却与收集模块，具备高产量、高收粉率与高材料利用率等特点。
日产量：约 80 kg
出粉率：≥70%
材料利用率：≥95%
粉末粒径范围：
5 μm ～ 数十微米（适用于高精度3D打印与电子应用）
数十微米 ～ 500 μm（适用于粉末冶金与金属注射成型）
系统可根据不同金属的熔点与特性调节等离子炬功率及气氛环境，实现从低熔点轻金属到高温难熔合金的稳定制备。整体结构模块化，便于清理与维护，适合长期连续运行。
靶材与工艺配置
系统采用高温等离子炬作为能量源，将金属或合金原料在 5000–15000 ℃ 的高温等离子流中瞬间熔化，并通过高速惰性气体流进行雾化冷却，使熔融金属液滴快速凝固成球形粉末。
主要技术特点：
制备原理：金属熔化 → 雾化冷凝 → 粉末收集；
可制备粉末类型：铁（Fe）、钛（Ti）、镍（Ni）、铜（Cu）、铝（Al）等金属，以及部分高温合金（如 Inconel、Co-Cr、Ti-Al 系）；
粒径控制：通过调节等离子炬功率、气体流量、雾化压力及喷嘴结构，实现粒径分布的精确控制；
粉末特性：球形度高、氧含量低、流动性优良，适合后续3D打印、喷涂及烧结工艺。
冷却与收集系统
系统配备多级冷却和分级收集装置，确保粉末质量和产率。
冷却模块：采用高效气流冷却通道，保证粉末快速固化并防止团聚；
收集模块：多级旋风分离器与过滤系统，实现不同粒径粉末的分级回收；
环保设计：全密闭惰性气氛操作，避免氧化与污染，粉末纯度高。
真空与控制系统
设备在惰性气氛（氩气或氮气）保护下运行，有效防止粉末氧化。真空与气氛控制系统可在 100～1000 Pa 范围内稳定调节，适应不同材料工艺。
PLC 自动化控制系统支持以下功能：
实时监控等离子功率、雾化气压、冷却速率与收粉效率；
自动调整工艺参数以维持稳定生产状态；
数据采集与批次记录功能，支持工艺追溯与分析；
多重安全联锁与报警保护，保障设备长期稳定运行。
系统特点
生产效率高，粉末形貌球形度好、纯度高；
粒径可控范围宽，适应不同应用需求；
可连续生产，维护成本低，运行稳定；
采用惰性气氛保护，粉末氧含量低、活性高。
适用范围
该系统广泛应用于高端金属粉体制备领域，特别适用于对纯度、球形度及粒径分布要求严格的应用：
催化剂载体与活性金属粉末制备；
金属 3D 打印用球形粉末（如钛、镍、铝合金粉体）；
固态电容与导电材料制备；
锂电池、燃料电池功能粉末研发；
金属注射成型（MIM）与粉末冶金原料生产；
表面喷涂与功能涂层用高流动性金属粉末。
等离子炬熔化雾化系统通过高能等离子体实现金属原料的瞬时熔化与雾化冷凝，制得球形度高、纯度优良的金属粉体。其高效率、自动化与可控性使其成为现代金属粉末制造及先进材料研发的理想装备，广泛应用于航空航天、新能源、电子与高性能制造领域。
