结构与规格

金刚石涂层（TAC，Tetrahedral Amorphous Carbon）设备是一款专为硬质刀具、难加工材料零件及高摩擦工况部件设计的高性能表面强化系统。设备采用立式结构，整体布局紧凑，占地空间小，便于装夹与维护。腔体有效尺寸可选：

• Φ800 × 800 mm (H)

• Φ900 × 1000 mm (H)

• Φ1000 × 1200 mm (H)

设备内部配备可调速旋转转架，可实现工件自转与公转运动，确保沉积过程中膜层厚度均匀，附着力稳定。该设计能够满足从刀具涂层开发到批量生产的不同工艺需求。

靶材与工艺配置
该系统采用阴极弧磁过滤与磁控溅射复合工艺相结合的沉积方式，能够在多种基材上制备高纯度类金刚石（TAC）薄膜。

• 工艺原理：阴极弧磁过滤法可有效消除弧斑大颗粒，使沉积粒子更加精细均匀；磁控溅射工艺则提高了涂层的结合强度与致密度。两种工艺协同作用，可在较低温度下实现高质量涂层沉积。

• 靶材类型：采用高纯碳靶（Graphite）作为主要沉积材料，可根据需要添加金属辅助靶（如 Ti、Cr 等），调节涂层的硬度、应力及摩擦性能。

• 磁过滤系统：弧源后的磁过滤通道能有效去除大颗粒离子，提高膜层的表面光洁度与均匀性，适合对表面要求极高的精密工件。

• 沉积温度：相对较低（约 200–350 ℃），可在硬质合金、铝合金、不锈钢、工具钢等多种材料上形成高附着力的涂层，不会引起基体退火或变形。

真空与控制系统
系统配备高性能分子泵与前级机械泵组合的真空抽气机组，极限真空可达 5 × 10⁻⁴ Pa，保证沉积环境的清洁与稳定。
全自动 PLC 控制系统可精确控制各项工艺参数，包括靶功率、气体流量（Ar、CH₄、H₂）、转架速度及沉积时间。系统具备多通道实时监控、工艺曲线记录与自动报警功能，可实现工艺配方储存与重复调用，确保生产一致性与可追溯性。

工艺与性能优势

• 采用磁过滤弧源技术，膜层致密度高，表面粗糙度低；

• 涂层硬度高，可达 4000–6000 HV；

• 摩擦系数极低（0.1 以下），耐磨性优异；

• 涂层附着力强，能在多种金属材料表面实现稳定结合；

• 沉积温度低，对基材影响小，适合热敏材料工件。

可沉积材料
系统可沉积多种基于碳的高性能薄膜，包括：

• TAC（类金刚石涂层）

• TiC、CrC、WC 等碳化物类涂层

• 含金属元素的复合碳膜（如 Ti-DLC、Cr-DLC）

适用范围
TAC 涂层因其极高硬度、优异的减摩特性及耐腐蚀性能，被广泛应用于高端制造与精密工程领域，主要包括：

• 切削刀具：硬质合金刀片、立铣刀、钻头等，提高切削效率与寿命；

• 难加工材料：钛合金、镍基合金等材料的加工刀具，减少粘刀现象；

• 铝材加工：有效防止铝屑粘附，改善加工表面光洁度；

• 精密机械零件：轴承轴、活塞杆、滑动件等，增强耐磨性与使用寿命；

• 高摩擦工况部件：用于阀芯、导轨及机械传动部位的减摩防护。

金刚石涂层（TAC）真空镀膜设备通过阴极弧磁过滤与磁控溅射技术的组合，实现了高硬度、高附着力与低摩擦性能的优质涂层制备。其结构设计合理、工艺控制精确、适应性强，是刀具、模具及精密零件表面强化的理想解决方案，可显著提升产品的使用寿命与加工性能。