制备空间：
设备采用小型实验机设计，专用于少量金属粉末及部分合金粉末的制备。可实现纳米级颗粒生成，粉末粒径范围可稳定控制在 100 nm～500 nm 之间，满足科研级精密粉体制备需求。
结构设计：
紧凑型腔体结构，体积小、占地少，便于安装与操作。设备布局合理，适用于实验室空间或多工位环境，支持单人独立操作及快速维护。
核心工艺技术：
采用电弧蒸发法（Arc Evaporation）原理，通过高能电弧加热金属靶材，使其蒸发并在惰性气氛中迅速冷凝形成纳米粉末。该技术具有蒸发效率高、粒度分布可控、粉末纯度高等特点。
气氛与真空控制
配置高效真空抽气系统与精密气氛控制模块，可实现真空环境下的惰性气体（如 Ar、He）注入与稳定控制，防止氧化与杂质混入，确保粉末纯净度及粒径稳定性。
优势性能：
· 粉末粒径可控，分布均匀，重复性高。
· 可制备单一金属粉（如 Ti、W、Cu、Ni 等）或部分合金粉（如 TiAl、NiCr 等）。
· 设备体积小、能耗低、运行稳定、维护方便。
· 可根据实验需求调整放电功率与气压，实现不同材料特性优化。
应用领域：
广泛用于科研院校实验室、新材料研发机构及小批量生产场景，适合纳米粉体制备、粉末性能测试、成分分析与新工艺验证，是理想的实验级纳米粉体制备设备。
制备空间：
设备适用于大规模金属粉末及部分合金粉末的工业化生产，粒径范围覆盖 5 μm～数十微米及数十微米～500 μm，可根据工艺需求实现不同粒径区间控制，满足增材制造、电子材料及新能源领域的多样化应用。
结构设计：
采用连续化生产线布局，系统集成高效收集、分级与冷却装置，保证粉末粒度分布均匀、批次稳定性高。整机结构稳固，操作流程自动化程度高，适合长期连续运行。
核心工艺技术：
采用等离子炬法（Plasma Torch）技术，通过高温等离子体将金属或合金原料熔化并雾化冷凝形成球形粉末。该工艺具有高熔化温度、高冷凝速率与极低氧含量等特点，可制备高纯度、高流动性粉体。
产能与效率：
系统日产量可达 80 kg，出粉率高达 70%，材料利用率约 95%。通过自动收集与筛分系统，实现高效粉末回收与粒度分级，显著降低原料浪费与人工成本。
优势性能：
· 粉末粒径可控，适配不同下游工艺（如 3D 打印、喷涂、烧结等）。
· 连续化生产效率高，适合工业化批量运行。
· 收集与分级系统高效稳定，粉末形貌均匀、流动性优良。
· 氧含量低、纯度高，满足高端应用要求。
应用领域：
广泛应用于催化剂制造、3D 打印原料（Additive Manufacturing）、固态电容、电池电极材料、航空航天涂层及精密冶金领域，是金属粉体与合金粉末批量化制备的高性能生产装备。
